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Detalhes do produto:
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| Tipo de formação: | Conformação a frio. | Aplicativos: | Forno de crescimento de silício, forno de crescimento semidutor, outros fornos de aquecimento, etc. |
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| Tratamento de superfície: | Decapagem, acabamento em moinho, polimento, polimento espelhado. a seu pedido. | Código de Fabricação: | ASME, PED/UE, RUÍDO 28011, DIN280913, GB/T. |
| Pedido personalizado: | Aceitado. | ||
| Destacar: | ASME stainless steel vacuum chamber,Dished heads for semiconductor furnace,Elliptical head silicon furnace |
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ASME Stainless Steel Vacuum Chamber Dished Heads for Silicon Semiconductor Furnace 1.Specification of ASME Vacuum Chamber Dished Heads: Specifications of ASME Stainless Steel Vacuum Chamber Dished Heads Inner Diameter 1600mm (Seamless, Weldfree), other diameters are available upon your request. Nominal Thickness 10mm, other thickness are available as your request. Minimum Thickness 8.5mm Shapes Elliptical/Ellipsoidal. Other Shapes are available as your request. Available
Pessoa de Contato: Lynn Chen
Telefone: +86 15037307289