|
|
تفاصيل المنتج:
اتصل
تحدث الآن
|
| نوع التشكيل: | تشكيل الباردة. | التطبيقات: | فرن نمو السيليكون، فرن نمو أشباه الموصلات، أفران التسخين الأخرى، إلخ. |
|---|---|---|---|
| المعالجة السطحية: | التخليل، مطحنة النهاية، التلميع، تلميع المرآة. بناء على طلبك. | كود التصنيع: | ASME، PED/الاتحاد الأوروبي، DIN 28011، DIN280913، GB/T. |
| طلب مخصص: | قبلت. | ||
| إبراز: | ASME stainless steel vacuum chamber,Dished heads for semiconductor furnace,Elliptical head silicon furnace |
||
ASME Stainless Steel Vacuum Chamber Dished Heads for Silicon Semiconductor Furnace 1.Specification of ASME Vacuum Chamber Dished Heads: Specifications of ASME Stainless Steel Vacuum Chamber Dished Heads Inner Diameter 1600mm (Seamless, Weldfree), other diameters are available upon your request. Nominal Thickness 10mm, other thickness are available as your request. Minimum Thickness 8.5mm Shapes Elliptical/Ellipsoidal. Other Shapes are available as your request. Available
اتصل شخص: Lynn Chen
الهاتف :: +86 15037307289
