|
Λεπτομέρειες:
Επικοινωνία
Μιλήστε τώρα.
|
| Τύπος διαμόρφωσης: | Ψυχρή Μορφοποίηση. | Εφαρμογές: | Φούρνος ανάπτυξης πυριτίου, φούρνος ανάπτυξης ημιαγωγών, άλλοι φούρνοι θέρμανσης κ.λπ. |
|---|---|---|---|
| Επεξεργασία Επιφανειών: | Pickling, Mill Finish, Polishing, Mirror Polishing. κατόπιν αιτήματός σας. | Κώδικας Παραγωγής: | ASME, PED/EU, DIN 28011, DIN280913, GB/T. |
| Προσαρμοσμένη παραγγελία: | Αποδεκτός. | ||
| Επισημαίνω: | ASME stainless steel vacuum chamber,Dished heads for semiconductor furnace,Elliptical head silicon furnace |
||
ASME Stainless Steel Vacuum Chamber Dished Heads for Silicon Semiconductor Furnace 1.Specification of ASME Vacuum Chamber Dished Heads: Specifications of ASME Stainless Steel Vacuum Chamber Dished Heads Inner Diameter 1600mm (Seamless, Weldfree), other diameters are available upon your request. Nominal Thickness 10mm, other thickness are available as your request. Minimum Thickness 8.5mm Shapes Elliptical/Ellipsoidal. Other Shapes are available as your request. Available
Υπεύθυνος Επικοινωνίας: Lynn Chen
Τηλ.:: +86 15037307289