|
Szczegóły Produktu:
Kontakt
Rozmawiaj teraz
|
| Typ formowania: | Formowanie na zimno. | Aplikacje: | Piec do wzrostu krzemu, piec do wzrostu półprzewodników, inne piece grzewcze itp. |
|---|---|---|---|
| Obróbka powierzchniowa: | Wytrawianie, mielenie, polerowanie, polerowanie lustrzane. na Twoją prośbę. | Kodeks produkcyjny: | ASME, PED/UE, DIN 28011, DIN280913, GB/T. |
| Zamówienie niestandardowe: | Przyjęty. | ||
| Podkreślić: | ASME stainless steel vacuum chamber,Dished heads for semiconductor furnace,Elliptical head silicon furnace |
||
ASME Stainless Steel Vacuum Chamber Dished Heads for Silicon Semiconductor Furnace 1.Specification of ASME Vacuum Chamber Dished Heads: Specifications of ASME Stainless Steel Vacuum Chamber Dished Heads Inner Diameter 1600mm (Seamless, Weldfree), other diameters are available upon your request. Nominal Thickness 10mm, other thickness are available as your request. Minimum Thickness 8.5mm Shapes Elliptical/Ellipsoidal. Other Shapes are available as your request. Available
Osoba kontaktowa: Lynn Chen
Tel: +86 15037307289