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| Tipo di formazione: | Formatura a freddo. | Applicazioni: | Forno di crescita per silicio, Forno di crescita a semiduttore, altri forni di riscaldamento, ecc. |
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| Trattamento superficiale: | Decapaggio, Finitura al mulino, Lucidatura, Lucidatura a specchio. su tua richiesta. | Codice di produzione: | ASME, PED/UE, DIN 28011, DIN280913, GB/T. |
| Ordine personalizzato: | Accettato. | ||
| Evidenziare: | ASME stainless steel vacuum chamber,Dished heads for semiconductor furnace,Elliptical head silicon furnace |
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ASME Stainless Steel Vacuum Chamber Dished Heads for Silicon Semiconductor Furnace 1.Specification of ASME Vacuum Chamber Dished Heads: Specifications of ASME Stainless Steel Vacuum Chamber Dished Heads Inner Diameter 1600mm (Seamless, Weldfree), other diameters are available upon your request. Nominal Thickness 10mm, other thickness are available as your request. Minimum Thickness 8.5mm Shapes Elliptical/Ellipsoidal. Other Shapes are available as your request. Available
Persona di contatto: Lynn Chen
Telefono: +86 15037307289